Стоматологам
Пациентам
О компании
Меню раздела
О компании
Бренд с мировым именем
Обращение президента
Добро пожаловать на сайт Osstem Implant Россия!
История компании
25 лет успешного развития
О центре R&D
Центр исследований и разработок — источник высоких технологий
Продукция
Меню раздела
Система имплантатов
ET III SA by Hiossen Implant
Ortho винты
TS система
MS система
SS III SA система
SS протетика
TS протетика
Хирургические наборы
Хирургия по шаблонам
Для установки
Для протезирования
Для костной пластики
Для удаления
НКР
Autobone collector
OssBuilder
OssGuide
OssMem
Костные материалы
Стоматологическое оборудование
K3
IS3
KAVO EXPERTsurg (SM5)
Medit i700
Конусно-лучевой томограф Т1
Для ухода за полостью рта
Набор Wopick
Ополаскиватель Cool Gargle
Отбеливающая паста Vussen H
Зубная паста для чувствительных зубов Vussen S
Дорожный набор Vussen
Слепочные материалы
Hysil
Обучение
Меню раздела
Об учебном центре Osstem OIC
Преимущества учебных программ OIC
Конференции и форумы
Российские и международные конференции Осстем
Образовательные программы
Расписание
Лекторы
Поездки
Международные программы обучения и выставки
Пресс-центр
Меню раздела
Новости
Новости компании и фотографии прошедших мероприятий
Пресс-релизы
Обзоры и анонсы ближайших событий
Библиотека
Меню раздела
Статьи
Клинические случаи и исследования
Каталоги
Каталоги и брошюры о продукции Осстем
Документы
Регистрационные удостоверения и Декларации Соответствия Осстем
Гарантийная программа
Гарантийная программа ООО «Осстем», действующая на территории РФ
Видеогалерея
Видео-презентации, операции и протоколы работы
Библиотеки CAD/CAM
Контакты
Меню раздела
ООО «ОССТЕМ» Центральный офис
Россия, 115432, г. Москва,
пр. Андропова, дом 18, корп.7, этаж 8, офис 1
Тел.: 8 (495) 739-99-25
E-mail: info@osstem.ru
Поиск по сайту
Меню
Введите поисковую фразу
Главная
Хирургические наборы
Хирургия по шаблонам
Denture 4U
Denture 4U
Точная и безопасная имплантация по протоколу All-on-X
Позволяет точно установить 4–6 имплантатов при полной адентии
Позволяет корректировать наклон имплантатов и расстояние между имплантатами друг от друга без повреждения альвеолярного нерва
Cкачать каталог
Безопасная имплантация с точным позиционированием направляющих
Коррекция наклона имплантата
. При необходимости можно изменить угол наклона дистальной направляющей (предпочтительнее подобрать заранее с учетом данных КЛКТ)
Коррекция расстояния между имплантатами
. С помощью лазерной маркировки хирург может задать требуемое расстояние между имплантатами (маркировка с шагом 2 мм)
Коррекция вестибулярного/ язычного наклона имплантата
. Возможна коррекция вестибулярного/ язычного наклона имплантата в пределах ±35°
Универсальное использование
Направляющие свободно регулируются для точной установки имплантатов даже при несимметричном или неравномерном альвеолярном гребне
Безопасная имплантация без повреждения нерва
Возможность оценить положение нижнего альвеолярного нерва с помощью индикатора или проверочного цилиндра позволяет избежать его повреждения
ДОПОЛНИТЕЛЬНЫЕ МАТЕРИАЛЫ
Руководство пользователя
вКонтакте
YouTube
Telegram
Заявка на участие
ФИО
Email
Телефон
Город
Метро
Юр. адрес клиники
Комментарий
Подтверждаю согласие на обработку моих персональных данных и принимаю
условия пользовательского соглашения
Отправить
Ваша заявка
успешно отправлена
В ближайшее время с вами свяжется наш менеджер.
Извините,
произошла ошибка
Попробуйте отправить заявку позднее.
Вход на форум
Email или логин
Пароль
Забыли пароль
Регистрация
Запомнить меня
Войти
Восстановление пароля
Email для восстановления
Вход на форум
Регистрация
Отправить
Учетная запись
не найдена
Возможно, вы ошиблись при вводе данных. Попробуйте еще раз.
Регистрация
Выберите категорию
Врач стоматолог
Ассистент стоматолога
Стоматологическая клиника
Зубной техник
Зуботехническая лаборатория
Учебное заведение
Студент/ординатор
Фирма-производитель
Торговая компания
Журнал/Издание
Имя на форуме
ФИО
Город
Email
Пароль
Подтверждение пароля
Введите, пожалуйста, пароль
Зарегистрироваться
Извините, произошла ошибка
Регистрация на форуме временно недоступна. Попробуйте позднее.